真空熔煉爐各結(jié)構(gòu)功能介紹 　　真空熔煉爐廣泛應(yīng)用于硬質(zhì)合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進(jìn)行熱壓燒結(jié)處理，也可在充氣保護(hù)情況下熱壓成形燒結(jié)。下面就一起了解下結(jié)構(gòu)說明： 　　1、真空熔煉爐為立式結(jié)構(gòu)，采用雙層水夾層結(jié)構(gòu)，內(nèi)、外壁及法蘭均為304不銹鋼。爐體分為兩部分，其中三分之一為爐蓋可手動(dòng)完全側(cè)開門，三分之二部分為固定爐體，設(shè)計(jì)獨(dú)特，便于操作。 　　2、它的真空系統(tǒng)由油擴(kuò)散泵、羅茨泵、機(jī)械泵配電磁壓差閥(防止因突然停電、機(jī)械泵油倒灌)充氣閥、放氣閥、真空蝶閥、真空壓力表(±Pa)波紋管、真空管路和支架等組成。 　　3、液壓系統(tǒng)是采用電動(dòng)輸入方式。由液壓站配有進(jìn)口比例閥、壓力傳感器、位移顯示器采用光柵尺(測距精度0.02mm)、液壓缸等相關(guān)液壓裝置，壓力調(diào)節(jié)半自動(dòng)化、可通過手動(dòng)調(diào)節(jié)。儀表可設(shè)定自動(dòng)調(diào)節(jié)壓力，并能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)壓、保壓。 　　4、真空熔煉爐水冷系統(tǒng)是由各種閥管道相關(guān)裝置組成且設(shè)有斷水聲光報(bào)警自動(dòng)切斷加熱源或功能。 　　5、真空熔煉爐的溫控系統(tǒng)采用可控硅控溫，配置有PID功能儀表，數(shù)顯表，具有超溫聲光報(bào)警功能，也可選用PLC觸摸屏自動(dòng)控制，并保留歷史數(shù)據(jù)，便于分析燒結(jié)過程。 　　6、真空燒結(jié)爐的充氣系統(tǒng)由各種管道及閥門組成，并配有電磁放氣閥、壓力傳感器，當(dāng)爐內(nèi)壓力高于安全值時(shí)會(huì)自動(dòng)放氣，充氣管路上裝有針閥，可控制充氣量。

　　氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸猓瑲溥€原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。這種技術(shù)開始是作為涂層的手段而開發(fā)的，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細(xì)列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對(duì)炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。